(相关资料图)

光刻胶概念15日盘中再度活跃，截至发稿，蓝英装备涨超13%，福晶科技涨停，金力泰涨近10%，安泰科技涨超7%，晶方科技、怡达股份、苏大维格等涨超5%，万润股份、瑞联新材等均上扬。

怡达股份昨日表示，公司可用于光刻胶领域的湿电子化学品主要有电子级丙二醇甲醚(PM)和子级丙二醇甲醚乙酸酯(PMA)等。公司将进一步加强科技创新力度，争取研发更多的可用于光刻胶领域的高端产品。

瑞联新材昨日也表示，公司研发的光刻胶单体涉及ArF光刻胶及KrF光刻胶，其中部分ArF光刻胶单体产品已量产。

万润股份近日表示，公司目前在半导体制造材料领域的相关产品主要包括光刻胶单体与光刻胶树脂以及半导体制程中清洗剂添加材料等，并已有相关产品实现正常供应。公司半导体用光刻胶单体和光刻胶树脂产品种类及生产技术覆盖大部分主要产品；同时在半导体光刻胶成品材料方面，也做好了接受生产定制业务方面的准备。另外，公司开发的光致产酸剂已实现中试产品供应。公司“年产65吨光刻胶树脂系列产品项目”，现已基本具备了生产合格产品的条件，后续还将继续优化，而后开始试生产，力争尽快投入使用。目前公司在半导体制造材料领域已与10余家国内外客户开展合作，同时公司也继续积极开发新产品、拓展更多国内外客户。

财通证券指出，中国大陆以成熟制程为主的半导体产线不断扩产，产生了大量光刻设备的需求。2021年ASML有高达27.4亿欧元的营收来自中国大陆(其全球第三大市场)；全球光刻设备市场规模超180亿美元，显影涂胶设备市场超30亿美元。国产光刻曝光设备尚处于实验阶段；显影涂胶设备已覆盖浸没式ArFi工艺节点，突破动能强劲。

光刻机的运行需光源、照明、掩膜台、物镜、工件台等多个精密系统组合工作，全球光刻零件市场至少约70亿美元(按50%毛利率推算)。相比其他半导体零件，光刻机零件单个价值量高，技术难度大。贸易限制导致海外供应链风险剧增，国内光学企业成为不二之选，技术能力与对应产品的盈利能力有望加速成长。

在光刻配套设备与零件方面，该机构建议关注苏大维格、茂莱光学、芯源微、精测电子、盛美上海、美埃科技、炬光科技、福晶科技等。